A lei de Moore foi estabelecida pela primeira vez em 1965 por Gordon Moore, co-fundador da Intel em 1968 e, que em 1975 tornou-se um executivo da empresa.
O artigo original sobre a lei, publicado na revista eletrônica em 1965, tinha como foco aspectos econômicos relacionado ao custo por transistor, tecnologia anterior e a escala da nova tecnologia que era a Escala do Circuito impresso (SI), que crescia da pequena escala de integração (SSI) para a média escala (MSI), depois na década de 70 veio a larga escala (LSI).
Mas agora fabricar chips cada vez menores, mantendo o ritmo com a Lei de Moore talvez seja mais difícil hoje do que era no ano passado, disse William Holt, vice-presidente executivo e gerente geral do Grupo de Tecnologia de Manufatura da Intel, num discurso na Conferência Jeffries Global Technology, Media e Telecom da segunda semana de maio, e noticiada no PC World.
“Estamos mais perto de um fim do que éramos há cinco anos atrás? Claro. Mas somos nós para o ponto onde podemos realmente prever o efeito, nós não pensamos assim. Estamos confiantes de que vamos continuar a fornecer o blocos de construção básicos que permitem melhorias em dispositivos eletrônicos “, disse Holt.
Intel ainda tem a tecnologia de fabricação mais avançada da indústria de chips de hoje, mas foi preciso construir muitas novas fábricas para novos processos de chips, usando materiais novos como tungstênio e Germanio (Ge) para atingir a escala dos 90 e 65 nanômetros, e mais recentemente os gates high-k metal, de 45 nm e 32 nm.
As tecnologias abaixo de 22 nm (chamada Silvermont) já trabalham com estruturas 3D mas o futuro deve ser dos grafenos e chips quânticos, para andar na velocidade que andava a lei de Moore.
Moore’s Law was first established in 1965 by Gordon Moore, co-founder of Intel in 1968 and in 1975 became an executive of the company.
The original article on the law, published in electronics in 1965, was focused on economic aspects related to the cost per transistor, previous technology and scale of the new technology that was the scale of the printed circuit board (SI), which grew from small-scale integration (SSI) to medium scale (MSI), then in the 70’s came to a large scale (LSI).
But now make chips smaller and smaller, keeping pace with Moore’s Law may be more difficult today than it was last year, said William Holt, executive vice president and general manager of Technology Manufacturing Group at Intel, in a speech Jeffries Global Conference on Technology, Media and Telecom in the second week of May, and reported in PC World.
“We are closer to an end than we were five years ago? Course. But are we to the point where we can actually predict the effect, we do not think so. We are confident that we will continue to provide the basic building blocks that allow improvements in electronic devices, “said Holt.
Intel still has the manufacturing technology industry’s most advanced chip today, but it was necessary to build many new factories to new process chips, using new materials such as tungsten and Germanium (Ge) to achieve the scale of 90 to 65 nanometers, and more recently the high-k metal gates, 45 nm and 32 nm.
The technologies below 22 nm (called Silvermont) already work with 3D structures but the future must be of graphene and quantum chips, to walk in walking speed that Moore’s law.
La Ley de Moore se estableció por primera vez en 1965 por Gordon Moore, cofundador de Intel en 1968 y en 1975 se convirtió en un ejecutivo de la empresa.
El artículo original de la ley, publicada en la electrónica, en 1965, se centró en los aspectos económicos relacionados con el costo por transistor, tecnología anterior y la escala de la nueva tecnología que fue la escala de la placa de circuito impreso (SI), que creció de integración a pequeña escala (SSI) a mediana escala (MSI), a continuación, en los años 70 vino a gran escala (LSI).
Pero ahora fabricar chips cada vez más pequeños, la adaptación a la Ley de Moore puede ser más difícil de lo que era el año pasado, dijo William Holt, vicepresidente ejecutivo y gerente general del Grupo de Tecnología de Manufactura en Intel, en un discurso Jeffries Conferencia Global sobre Tecnología, medios y Telecomunicaciones en la segunda semana de mayo, y se informó en PC World.
“Estamos más cerca de un extremo de lo que estábamos hace cinco años? Course. Pero vamos al punto donde podemos predecir el efecto, no nos lo creemos. Estamos seguros de que vamos a seguir para proporcionar los elementos básicos que permiten mejoras en los dispositivos electrónicos “, dijo Holt.
Intel todavía tiene la viruta más avanzada de la industria de la tecnología de fabricación de hoy en día, pero era necesaria la construcción de muchas nuevas fábricas para nuevos chips de proceso, utilizando nuevos materiales como el tungsteno y el germanio (Ge) para lograr la escala de 90 a 65 nanómetros, y más recientemente, el high-k puertas de metal, 45 nm y 32 nm.
Las tecnologías siguientes 22 nm (llamados Silvermont) ya trabajan con estructuras 3D pero el futuro debe ser de los chips de grafeno y la cuántica, que andes en la velocidad al caminar que la ley de Moore.